通过多日接连奋战，航天科技集团公司四院42所光电子薄膜资料工程技能研究中心的小型精细涂布机近来装置调试成功，设备正常运转状况良好，这是继该所分散膜技能中试扩大实验成功后的又一阶段性效果，标志着该所膜工业由一般膜产品向高端光电子膜产品转型晋级并逐渐完成商业化出产，取得了明显发展。

  据悉，由42所自主规划的国内首台光学薄膜资料研制用小型精细涂布机，选用现在世界最先进的涂布工艺和气浮式工艺，可完成薄、厚涂层的精细均匀涂布，最大极限削减划伤问题。它的装置调试成功，标志着该所光学分散膜研制在把握高性能薄膜资料制作工艺核心技能、具有自主知识产权、打破国外产品的商场独占、添补国内技能空白等方面，又向前迈出了坚实的一步。